“我们只是了力所能及的工作而已。”果然，听到段云这么说，黄令仪的脸上了笑容。

说起光刻机，后世人们第一个想到的就是荷兰的阿斯麦公司。

国产第1台光刻机gk-3型半自动接近式光刻机诞生于1977年，而那个时候荷兰的阿斯麦连成立都没有成立。

而其中之一，就是要保证拥有制造芯片所需的最先的光刻机。

其实在七八十年代的时候，咱们国家就已经有了国产光刻机。

走研发中心之后，段云坐在自己的车里，陷了短暂的沉思。

但是中国的光刻机产业可以用一句话来形容，那就是：起了个大早，赶了个晚集。

“以后你们工作要注意劳逸结合，别把自己累垮了，你们可是咱们公司技术方面的梁。”段云安顿了一句，接着说：“另外我建议你们过年期间休息个一两天，家人我都帮你们接过来，真要是把你们累坏了，那我可就成罪人了。”

“谢谢段经理。”黄令仪激的说。

段云说完，对众人微微一笑，转离开了实验室。

尽得到了黄令仪承诺的可以在年内完成nada芯片的承诺，然而对段云来说，如果想长期在国际芯片产业占据一席之地，它还有很多的问题需要解决。

如果换其他人，段云这心灵汤基本上用没有，然而黄令仪却很吃这一，作为一个在制内工作了几十年，一直享受着各光环和荣誉的尖专家来说，能得到别人和赞许的肯定也是对他们一奖励，所以段云和黄令仪这样的人打，除了让他们能过上面光鲜的生活，还要经常和他们讲情怀，不吝惜赞和表扬，也只有这样，才能激发他们最大的工作情。

！”

光刻机是大系统尖技术和工程极限度合的结晶，被誉为集成电路产业链“皇冠上的明珠”。

日本的尼康和佳能于20世纪60年代末开始光刻机领域，中国利用光刻技术制造集成电路，大致也是始于同一时期。

1965年，我国第1块集成电路在北京，石家庄和上海等地相继问世，1974年9月第1次全国大规模集成电路工业会议召开，国家纪委在北京召开的“全国大规模集成电路及基础材料攻关大会战会议”上，拟定的目标是在1974年到1976年，突破大规模集成电路的工艺装备基础材料等方面的关键技术，司机组织京沪电工业会战行大规模集成电路及材料装备研发，突破超威力钢板，光刻胶超纯净试剂，纯度气磁场，偏转电束镀机等材料装备。

“行了吧，那你们忙吧，我先去别看看。”

1975年12月第2次全国大规模集成电路会议在上海召开，1977年1月第3次全国大规模集成电路会议在贵州召开，这三次会议可以说直接导致了上世纪80年代前后，中科院系统电系统地方各研发单位光刻机成果的第1次大爆发。